電弧蒸發沉積法(Arc-evaporation deposition)是對機械工件進行耐磨處理的常用方法。但是，使用此法容易產生顆粒雜質，膜層的質量得不到保證。為了解決這個問題，納峰科技私人有限公司研究出了新的過濾陰極真空電弧（FCVA）鍍膜科技。這一專利技術不僅可以應用于高品質非晶四面體碳(ta-C)膜，而且還可鍍金屬、金屬氧化物等其他膜層。成品完全滿足實際生產中各種嚴苛的條件。
在陰極真空電弧鍍膜過程中，陰極電弧發射等離子束（參雜了宏觀顆粒和中性原子）。電磁過濾彎管負責濾除那些不必要的宏觀顆粒和中性原子，只有那些具有一定能量的離子可以到達基片。這個特別的技術可以產生硬度更高，密度更大，更純凈的薄膜。用FCVA方法鍍出的薄膜：與基片結合力更高；具有良好的光學、化學、電子和機械性能；并且重復性好，完全滿足各種實際生產要求。
除此之外，在鍍膜過程中，基片的表面溫度一般可以保持在70℃以下。因此，可以對塑料或橡膠進行FCVA鍍膜。與傳統方法（比如：化學汽相沉積法，物理汽相沉積法）不同，FCVA技術產生能量穩定的電弧和100%純離子束流，能量可以根據不同的要求精確控制。通過這項科技我們可以生產獨特的ta-C膜，并可產生高品質的Al2O3膜。
FCVA技術與其他類似技術相比的5個優點：
1.離子束能量可調，產生的薄膜性質可以選擇和微調。因此薄膜與基片的結合力更好，薄膜的各項性質更穩定。
2.通過等離子掃描專利技術，鍍膜有出眾的均勻性和重復性，并且可以進行大面積鍍膜，這是其他類似技術所達不到的。
3.FCVA技術產生少得多的宏觀顆粒。例如ta-C膜，相較其他類似技術的每平方厘米約103個，FCVA技術的鍍膜每平方厘米僅含有約1個宏觀顆粒。此類鍍膜設備已經成功地應用于硬盤滑動磁頭表面鍍膜及其它摩擦機械領域的應用。
4.FCVA技術還包含陽極/陰極區域復雜的電磁場設置，陰極和陽極尺寸可調，確保輸出等離子為束狀。這點對大面積高沉積率鍍膜尤為重要。
5.FCVA技術是低溫工藝，鍍膜過程可以控制在70°C以下。鍍膜過程中既不需要高溫也不會產生高溫。因此可以應用于各種低溫熔解的基材上，如：塑料，橡膠等。
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