一種動磁場真空鍍膜磁控滅射源，包括靶基板、焊接或用壓環固定在靶基板正面的片狀靶材、屏蔽環、磁鋼基板、安裝在磁鋼基板上的內磁鋼和外磁鋼，所作的改進是：磁鋼基板的直徑大于靶材的半徑、小于靶材的直徑，磁鋼基板軸線偏離靶基板軸線，磁鋼基板固定在一個正齒輪的側面上，在鍍膜機機架上安裝與正齒輪嚙合的齒圈，在機架上安裝位于正齒輪后側的電機，電機動力輸出軸上固定拐柄，齒輪軸安裝在拐柄上。電機動力輸出軸及齒圈與靶基板同軸線設置。本發明的積極效果是：得到一個公轉兼自轉的環形磁場，用以掃描到靶材的每一個位置，使靶材在更大的面積上被均勻地滅射刻蝕。靶材的利用率高，鍍膜均勻。

　　

　　1.一種動磁場真空鍍膜磁控濺射源，包括正面在真空沉積腔中的靶基板、焊接或用壓環固定在靶基板正面的片狀靶材、罩住靶基板圓周側面及靶基板正面靶材以外部分的屏蔽環、設置在靶基板背面的磁鋼基板、安裝在磁鋼基板上的朝向靶基板一側的圓心位置的內磁鋼和圓周位置的環形外磁鋼或排列成環的組合外磁鋼，其特征是：磁鋼基板的直徑大于靶材的半徑、小于靶材的直徑，磁鋼基板軸線偏離靶基板軸線，磁鋼基板固定在一個正齒輪的側面上，在鍍膜機機架上安裝與正齒輪嚙合的齒圈，在機架上安裝位于正齒輪后側的電機，電機動力輸出軸上固定拐柄，齒輪軸安裝在拐柄上。

　　

　　2.根據權利要求1所述的一種動磁場真空鍍膜磁控濺射源，其特征是：電機動力輸出軸及齒圈與靶基板同軸線設置。

　　

　　3.根據權利要求1所述的一種動磁場真空鍍膜磁控濺射源，其特征是：齒圈的分度圓直徑減去內磁鋼的分度圓直徑之差要大于或等于內磁鋼的直徑。

　　

　　4.根據權利要求1所述的一種動磁場真空鍍膜磁控濺射源，其特征是：磁鋼基板軸線偏離靶基板軸線的距離加磁鋼基板半徑之和等于或接近于靶材的半徑的長度。