采用等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)、磁控濺射和陰極電弧離子鍍技術相結合的方法，合理利用金屬Cr靶和TiAl靶，選擇性地在硬質合金基體上沉積了具有不同中間層(Cr、TiAl、TiAlN、Cr/TiAl/TiAlN)的復合結構體系類金剛石(DLC)涂層。選用拉曼光譜、光學顯微鏡、掃描電子顯微鏡和能譜儀對涂層形貌和結構進行表征測試。同時，利用顯微硬度計、洛氏硬度計、劃痕測試儀和球磨儀系統地分析了涂層的力學性能。研究結果表明：基體/Cr/TiAl/TiAlN/DLC涂層體系綜合性能z*佳，具有較高硬度(~3251HV)的同時結合性能z*優(合力~56.2N)，且抗磨損能力z*強。Cr/TiAl/TiAlN較其它中間層可更有效地緩解涂層體系內應力并提高基體/涂層間的結合強度和抗磨損能力。基體/TiAlN/DLC涂層體系復合硬度z*高(~3350HV)，但其韌性z*差、結合力z*低(~35N)，在硬質合金基體上直接沉積TiAlN作為中間層不利于提高基體/涂層間的結合強度。
　　
　　類金剛石(diamond-likecarbon，DLC)涂層是含有sp3和sp2雜化的亞穩態非晶碳膜，具有高硬度，低摩擦系數，優異的耐磨性，良好的光學透過性和生物相容性等優異性能，已在表面工程領域引起廣泛的關注。但實際應用中，尚存在一些問題未得到有效解決。主要表現在：涂層內應力大、涂層/基體結合性能差。這限制了DLC涂層在工業中的大規模應用。提高DLC涂層與基體間的結合強度，增強涂層體系的抗磨損能力越來越成為研究人員關注的重點。
　　
　　降低內應力提高結合強度有多種方法途徑，通過摻雜金屬(Ti、Cr、W)和非金屬元素(N、Si、F)等可有效地降低涂層內應力，提高涂層/基體間的結合強度，但往往以降低涂層的硬度和彈性模量為代價，這就導致涂層的抗磨損能力大幅降低，無法對基體起到保護作用。
　　
　　在基體與涂層間施加合適的中間層可有效地解決內應力和抗磨損能力的問題。其設計思想是通過一層或者多層中間層體系來改善基體與涂間的物理匹配性，并且能夠增強界面對位錯滑移的阻礙作用，提高涂層的韌性和抗磨損能力。中間層材料通常有Si、Al、Ti、Cr以及TiN、TiC、TiCN、TiAlN等。梯度中間層是通過控制沉積參數和沉積材料的成分配比，使涂層成分、組織、性能從基體到外層無界面連續變化，可消除涂層間的宏觀界面，逐漸釋放內應力，從而提高結合強度并保持硬度基本不變。
　　
　　據文獻報道，在不銹鋼基體上沉積Ti/TiN/TiCN/TiC/DLC涂層，在提高涂層體系結合力的同時增強了頂層DLC的承載能力；在鋁合金表面制備Ti/TiNC/DLC涂層，內應力顯著降低且結合強度大幅提高，抗磨損能力也得到增強。上述文獻報道的中間層體系雖然能夠提高涂層結合強度和抗磨損能力，但由于沉積工藝的限制，應用于工業生產難度較大并且在不同基體上沉積時結合性能呈現差異。Cr具有優異的耐磨性，抗氧化能力強，且與各種硬質合金相容性、結合性能較好。在基體表面沉積一層厚度適當的Cr可形成鍵合界面，提高涂層/基體間附著力；TiAl屬于硬度較高的金屬間化合物材料，同時又由兩種金屬元素組成，與硬質合金基體結合性能優異；TiAlN硬度高，具有較強的抗磨損能力，可用于充當涂層體系中的第二抗磨損層；TiAl/TiAlN梯度過渡層能夠逐漸緩解內應力從而提高韌性和結合強度；Cr/TiAl/TiAlN中間過渡層能夠降低涂層體系熱膨脹不匹配產生的應力，既保證了涂層體系具有良好的結合強度，又增強了涂層體系的抗摩擦磨損能力。
　　
　　本文中，作者利用PECVD、磁控濺射和陰極電弧離子鍍技術在YG8硬質合金基體上制備了一系列多層結構體系的DLC涂層。分別以Cr、TiAl、TiAlN和Cr/TiAl/TiAlN為中間層，系統地研究了不同中間層類型對DLC涂層結構、形貌、硬度、韌性、界面結合強度和抗磨損能力的影響規律。
　　
　　1、制備方法
　　
　　1.1、試樣制備
　　
　　以YG8硬質合金為基體材料，尺寸為17mm×10mm×5mm；基體經拋光后用清水清洗5min，超聲波清洗20min，去離子水浸泡5min，z*后經無水乙醇脫水并烘干后裝入真空室內的轉架上待用。制備涂層后，試樣采用電木粉熱鑲樣，分別經200#、400#、600#、1000#、1200#砂紙依次打磨后，并用1μm的金剛石拋光膏拋光，z*后用清水沖洗干凈，烘干后待SEM觀察涂層截面形貌用。其余測試所用試樣只需用無水乙醇將表面清洗干凈并烘干即可。
　　
　　1.2、實驗方法
　　
　　采用新型DC-PECVD技術制備DLC涂層，兩個離子束源安裝于腔體內壁，以純度為97%的C2H2為反應氣體。抽真空至5×10-3Pa，分別制備四種類型中間層。具體工藝參數如表1所示，中間層制備結束后通入C2H2氣體制備DLC涂層，其流量設定為50sccm，并持續240min，此時離子束電壓均為1200V，基體偏壓1050V。

　　
　　表1 四種樣品的中間層制備工藝參數
　　
　　1.3、性能表征
　　
　　拉曼光譜測試采用RM2000型顯微共焦拉曼光譜儀，激光器波長：514.5nm，顯微尺寸范圍：1μm；DLC涂層橫截面形貌的觀察在Quanta200型掃描電子顯微鏡(SEM)下進行，同時用EDS能譜儀進行元素分布線掃描；硬度采用Duramin型顯微硬度計測試，載荷為0.98N，載荷保持時間為15s，每個試樣測試5個點取平均值；韌性測試采用洛氏硬度計進行壓痕檢測并用配套光學顯微鏡觀察壓痕形貌；采用WS-2005涂層附著力自動劃痕儀測試涂層界面結合性能，加載速率20N/min，z*大載荷200N，劃痕速率5mm/min，劃痕長度設定5mm；抗磨損性能采用球磨儀進行測試。
　　
　　結論
　　
　　(1)中間層硬度對涂層復合硬度產生重要作用，TiAlN中間層樣品復合硬度z*高(~3350HV)，TiAl中間層樣品顯微硬度z*低(~2736HV)。Cr/TiAl/TiAlN中間層樣品復合硬度為~3251HV略低于TiAlN中間層樣品。合理選取中間層有利于控制涂層的復合硬度。
　　
　　(2)Cr/TiAl/TiAlN中間層樣品具有z*高的涂層/基體結合強度(~58.2N)和z*佳的涂韌性，其相應的Rockwell-C壓痕等級為~HF3。Cr/TiAl/TiAlN梯度過渡層可有效緩解涂層與基體間的內應力，增強涂層韌性和結合強度，顯著提高涂層體系抗磨損能力。TiAlN中間層樣品結合性能z*差，涂層體系脆性較大、韌性差。TiAlN不適于作為中間層而直接沉積到硬質合金基體表面。