![濺射鍍膜機(jī)理](/uploadfile/2014/0421/20140421030346968.jpg)
圖 固體濺射過程級聯(lián)碰撞示意圖
由此可見,濺射過程即為入射離子通過一系列碰撞進(jìn)行能量交換的過程,入射離子轉(zhuǎn)移到逸出的濺射原子上的能量大約只有原來能量的1%,大部分能量則通過級聯(lián)碰撞而消耗在靶的表面層中,并轉(zhuǎn)化為晶格的振動。濺射原子大多數(shù)來自靶表面零點(diǎn)幾納米的淺表層,可以認(rèn)為靶材濺射時(shí)原子是從表面開始剝離的。如果轟擊離子的能量不足,則只能使靶材表面的原子發(fā)生振動而不產(chǎn)生濺射。如果轟擊離子能量很高時(shí),濺射的原子數(shù)與轟擊離子數(shù)之比值將減小,這是因?yàn)檗Z擊離子能量過高而發(fā)生離子注入現(xiàn)象的緣故。
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