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　　常規(guī)的實驗用磁控濺射設(shè)備，其固定的靶基工況，導(dǎo)致膜層均勻性區(qū)域有限，只能用于較小基片上膜層的沉積。提出一種新的方法，將靶材固定，基片自轉(zhuǎn)或公自轉(zhuǎn)工位變更為靶材可移動，基片自轉(zhuǎn)的方式，并控制靶材的移動及基片自轉(zhuǎn)速率的調(diào)節(jié)，可以用較小的靶材在較大平面上沉積膜...