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N硬質膜層高溫性能研究
2014-12-19  閱讀

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  【康沃真空網】采用等離子增強電弧離子鍍聯合磁控濺射工藝制備了含35%( 原子比) C 的( Ti,Al,Si,C) N 硬質膜層,并利用掃描電鏡、X 射線衍射儀及高溫摩擦磨損試驗儀表征了膜層在不同退火條件下的性能及組織演變行為。研究結果表明,復合膜層在低于800℃的退火條件下,膜層仍表現出較高的顯微硬度、較低的摩擦系數以及氧化增重率,復合膜層的顯微結構并未發生顯著的變化。在800℃、氧化7 h 后,膜層發生...