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　　【康沃真空網】采用一種新型的等離子體輔助脈沖直流磁控濺射濺射沉積方法，在低溫狀態(100℃) 下制備了氮化鈦薄膜，利用X射線衍射儀、輪廓儀、分光光度計、原子力顯微鏡對氮化鈦薄膜進行了表征，研究了等離子體源在薄膜制備過程中的作用。結果表明采用該方法可在低溫環境下制備高溫抗氧化性能良好的氮化鈦薄膜。當離子源功率為500 W 時，制備的氮化鈦薄膜表現良好氮化鈦(111) 擇優取向，薄膜表面粗糙度為1.43 nm，...