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脈沖電壓對HPPMS制備CrN薄膜的組織結構與力學性能的影響
2014-12-25  閱讀

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  【康沃真空網】采用復合高功率脈沖磁控濺射技術在單晶Si 片、高速鋼和玻璃上制備CrN 薄膜。分別研究了脈沖電壓在500,600, 700, 750 V 時對薄膜的組織結構和力學性能的影響。結果表明,隨著脈沖電壓的增加,靶材離化率增加,靶電流以及濺射原子離子數量級能量均...