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能量過濾磁控濺射技術室溫制備ITO膜的光電特性及其應用
標簽: 磁控濺射
2015-04-02  閱讀

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利用在直流反應磁控濺射(DMS) 技術基礎上改進的能量過濾磁控濺射( EFMS) 技術制備了ITO薄膜,并將其應用于頂發射有機電致發光器件(TOLED) 的陽極。利用X 射線衍射、原子力顯微鏡、橢圓偏振光譜儀和四探針方塊電阻測試儀分析了薄膜的結構、表面形貌、光學和電學特性,利用自搭建的電壓-電流密度-發光效率測試系統測量了TOLED 器件的發光效率。...