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高功率脈沖磁控濺射具有高的金屬離化率，在薄膜制備表現出巨大的優勢，成為當前磁控濺射技術領域一個新的發展趨勢。高功率脈沖磁控濺射的放電特性、等離子體特性等微觀參數對薄膜質量控制具有決定性作用，分析宏觀參數如何影響微觀參數，有利于提高薄膜質量，穩定工藝。因此，本文研究了脈沖與直流電源并聯模式的復合高功率脈沖磁控濺射過程中，脈沖電壓(400~800 V)對...
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