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本文采用射頻磁控反應濺射法于常溫下在硅片和玻璃基片上制備ZnO 和摻鋁ZnO 薄膜，將鋁絲置于ZnO 靶材上共同濺射來達到摻雜的效果，利用不同長度的鋁絲以獲得不同的摻雜量。通過X 射線衍射法對薄膜進行結構分析，利用紫外- 可見分光光度計獲得薄膜的透過率光譜，...
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