磁控濺射鍍膜的應(yīng)用
【康沃真空網(wǎng)】磁控濺射方法可用于制備多種材料，如金屬、半導(dǎo)體、絕緣子等。它具有設(shè)備簡單、易于控制、涂覆面積大、附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。磁控濺射發(fā)展至今，除了上述一般濺射方法的優(yōu)點(diǎn)外，還實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。
以下是磁控濺射的六大應(yīng)用
● 各種功能薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能。例如，在低溫下沉積氮化硅減反射膜以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
● 微電子：可作為非熱鍍膜技術(shù)，主要用于化學(xué)氣相沉積（CVD）。
● 裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用：如各種全反射膜和半透明膜；比如手機(jī)殼、鼠標(biāo)等。
● 一些不適合化學(xué)氣相沉積（MOCVD）的材料可以通過磁控濺射沉積，這種方法可以獲得均勻的大面積薄膜。
● 機(jī)械工業(yè)：如表面功能膜、超硬膜、自潤滑膜等。這些膜能有效提高表面硬度、復(fù)合韌性、耐磨性和高溫化學(xué)穩(wěn)定性，從而大大提高產(chǎn)品的使用壽命。
● 光領(lǐng)域：閉場非平衡磁控濺射技術(shù)也已應(yīng)用于光學(xué)薄膜（如增透膜）、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃。特別是，透明導(dǎo)電玻璃廣泛應(yīng)用于平板顯示器件、太陽能電池、微波和射頻屏蔽器件和器件、傳感器等。
除上述領(lǐng)域外，磁控濺射在高溫超導(dǎo)薄膜、鐵電薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發(fā)光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜的研究中也發(fā)揮著重要作用。
