【康沃真空網(wǎng)】1.PVD鍍膜含義?
答:PVD(PhysicalVaporDeposition)物理氣相沉積技術(shù):表示在真空條件下,采用物理方法,將材料源-固體或液體表面氣化成氣體原子、分子或部分電離成離子,并通過(guò)低壓氣體(或等離子體)過(guò)程,在基體表面沉積具有特殊功能薄膜的技術(shù).
2.PVD技術(shù)都有那些分類?
答:PVD(物理氣相沉積)技術(shù)主要分為三類,真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應(yīng)離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。
3.PVD鍍膜的具體原理是什么?
答:物理氣相沉積是一種物理氣相反應(yīng)生長(zhǎng)法,沉積過(guò)程是在真空或低氣氣體放電條件下,涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì),經(jīng)過(guò)"蒸發(fā)或?yàn)R射"后,在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層.
4.PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍相比有何優(yōu)點(diǎn)?
答:PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是,兩者都屬于表面處理的范疇,都是通過(guò)一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面.
兩者的不同點(diǎn)是:PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大,膜層的硬度更高,耐磨性和耐腐蝕性更好,膜層的性能也更穩(wěn)定;PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛,可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮;PVD鍍膜不會(huì)產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì).
5.氮化鈦(TiN)的功用為何?
答:①當(dāng)作擴(kuò)散阻障層(diffusionbarrierlayer),阻障鋁與氧化硅之間的擴(kuò)散.
②當(dāng)作粘著層(gluelayer),鎢與氧化硅附著力不好,在二者之間加入氮化鈦可以增加彼此的粘著力
③當(dāng)作反反射層(ARClayer),為了在微影技術(shù)制程中為達(dá)到高的分辨率,所以需一層抗反射層鍍膜以減少來(lái)自鋁的高反射率.
6.采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層有什么特點(diǎn)?
答:采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn),膜層的壽命更長(zhǎng);同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能.
7.請(qǐng)問(wèn)PVD能鍍?cè)谑裁椿纳?
答:PVD膜層能直接鍍?cè)诓讳P鋼、硬質(zhì)合金上、鈦合金、陶瓷等表面,對(duì)鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應(yīng)先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻,然后才適合鍍PVD.
8.請(qǐng)問(wèn)PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類有那些?
答:PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級(jí)鍍層且無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法,它能夠制備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等)、氮化物膜(TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等).
9.請(qǐng)問(wèn)PVD鍍膜膜層的厚度是多少?
答:PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí),厚度較薄,一般為0.1μm~5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.1μm~2μm,因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能,并能夠維持工件尺寸基本不變,鍍后不須再加工.
10.請(qǐng)問(wèn)PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色有哪些?
答:我們目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色,藍(lán)色,紫色,紅色,綠色等.通過(guò)控制鍍膜過(guò)程中的相關(guān)參數(shù),可以控制鍍出的顏色;鍍膜結(jié)束后可以用相關(guān)的儀器對(duì)顏色值進(jìn)行測(cè)量,使顏色得以量化,以確定所鍍出的顏色是否滿足要求.
11.為何鋁靶材需要添加少量的銅?
答:電流在鋁金屬層移動(dòng)時(shí),鋁原子會(huì)沿著晶粒界面而移動(dòng),若此現(xiàn)象太過(guò)劇裂,會(huì)導(dǎo)致金屬線斷路,添加少量的銅可以防止鋁線斷線.
12.PVD鍍膜的用途?
答:將固體表面涂覆一層特殊性能的薄膜,從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能,達(dá)到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長(zhǎng)產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得顯著技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益的作用.各個(gè)領(lǐng)域已經(jīng)得到廣泛應(yīng)用,如航空、航天、電子、信息、機(jī)械、石油、化工、環(huán)保、軍事等領(lǐng)域.
13.在PVD工藝中可以得到那幾種金屬膜?
答:鋁(AL),鈦(Ti),氮化鈦(TiN),鈷(Co).一般wafer進(jìn)入PVD機(jī)臺(tái),必須鍍上鈦/氮化鈦/鋁/鈦/氮化鈦.五層金屬.鈷的功用為金屬硅化物.
14.Target(靶材)是什么?
答：在PVD中，靶材是用來(lái)提供鍍膜（film）的金屬材料。
15.PVD制程原理為何?
答：在Target與wafer間加之高電位差，此時(shí)制程氣體Ar在高位差下解離成Ar+，又因Ar+帶正電被電場(chǎng)吸引而撞向Target，使target產(chǎn)生金屬晶粒因重力作用而掉落至wafer形成film。此種工藝是PVD。
