【康沃真空網】物理氣相沉積（PVD）技術出現于二十世紀七十年代末，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。
PVD是指在真空條件下利用高溫蒸發或高能粒子等物理方法轟擊靶材，使靶材表面原子“蒸發”并沉積在襯底表面，沉積速率高，一般適用于各類金屬、非金屬、化合物膜層的平面沉積。 按照沉積時物理機制的差別，物理氣相沉積一般分為真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜、離子鍍膜和分子束外延等。
▲ 真空蒸發鍍膜工作原理示意圖 PVD基本原理可分三個工藝步驟：
? 鍍料的氣化：即使鍍料蒸發，升華或被濺射，也就是通過鍍料的氣化源；
? 鍍料原子、分子或離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經過碰撞后，產生多種反應；
? 鍍料原子、分子或離子在基體上沉積。近年來，薄膜技術和薄膜材料的發展突飛猛進、成果顯著，在原有基礎上，相繼出現了離子束增強沉積技術、電火花沉積技術、電子束物理氣相沉積技術和多層噴射沉積技術等。與此同時，以PVD工藝為核心的真空鍍膜設備應用也越來越廣泛，尤其在科研行業，真空鍍膜設備已成為鍍膜工藝開發、材料研究、納米結構、膜層性能研究等尖端鍍膜領域不可或缺的硬件設施。相比于工業應用的真空鍍膜生產線，針對科研領域的實驗室真空鍍膜設備外形更美觀、結構更緊湊，而且具有性能多樣、操作簡單、運行可靠等特點。
許多高端設備可實現蒸發鍍膜、磁控濺射鍍膜、電弧鍍膜等工藝的自由選擇。其特點主要如下：
? 緊湊靈活：設計緊湊，占地面積小，便于在實驗室或小型生產線等空間有限的環境中使用。同時，其靈活性也意味著它可以更容易地適應不同的工作環境和場景。
? 操作簡單：通常具有更簡單的操作界面和更少的操作步驟，操作人員能夠更快地掌握使用方法。同時，其簡單的結構也降低了故障率，減少了維修和保養的麻煩。
? 應用廣泛：在科研領域，可用于制備各種材料的薄膜，以研究材料的表面性能、光學性能、電學性能等。另外，實驗室真空鍍膜設備更加注重結果的精確性，所以高精度控制系統必不可少，以精確控制蒸鍍過程中的各種參數，如溫度、真空度、蒸發速率等，從而確保薄膜制備的質量和穩定性。
