蒸發源的種類
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2024-10-29 閱讀
【康沃真空網】蒸發源的種類常見的蒸發源包括電阻加熱蒸發源、電子束蒸發源等。
1.電阻加熱蒸發源：通過電流加熱材料，簡單易用。
2.電子束蒸發源：利用電子束的能量加熱蒸發材料，可實現更高的溫度和更精確的控制。
電阻蒸發鍍膜技術采用電阻加熱蒸發源的蒸發鍍膜技術，一般用于蒸發低熔點材料，如鋁、金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等；加熱電阻一般采用鎢、鉬、鉭等。奇優點，結構簡單，成本低。缺點材料易與坩堝反應，影響薄膜純度，不能蒸鍍高熔點的介電薄膜；蒸發率低。 電子束蒸發，利用高速電子束加熱使材料汽化蒸發，在基片表面凝結成膜的技術。
電子束熱源的能量密度可達104-109w/cm2，可達到3000℃以上，可蒸發高熔點的金屬或介電材料如鎢、鉬、鍺、SiO2、AL2O3等。
電子束加熱的蒸鍍源有直槍型電子槍和e型電子槍兩種(也有環行)，電子束自源發出，用磁場線圈使電子束聚焦和偏轉，對膜料進行轟擊和加熱。其優點可蒸發任何材料，薄膜純度高，直接作用于材料表面，熱效率高。缺點電子槍結構復雜，造價高，化合物沉積時易分解，化學比失調。 為了實現有效的蒸發鍍膜，真空環境是必不可少的。以下是真空環境的幾個重要作用，減少氣體分子的碰撞，防止薄膜受到污染；降低原子或分子的平均自由程，增加它們到達基底的概率；避免氣體反應對薄膜性質的影響。但在進行蒸發鍍膜之前，基底的處理非常重要。基底表面必須干凈、平整，以確保薄膜的附著力和質量。
