我國真空鍍膜設(shè)備研制始于20世紀(jì)50年代，當(dāng)時研制了各種蒸發(fā)式真空鍍膜設(shè)備，滿足了光學(xué)事業(yè)發(fā)展需要。進(jìn)入上世紀(jì)70年代以后，由于國民經(jīng)濟(jì)各種領(lǐng)域的需求，各類真空鍍膜設(shè)備得到了長足的發(fā)展。目前各類鍍膜設(shè)備基本齊全，種類繁多，滿足了各行業(yè)的需要。真空鍍膜設(shè)備主要類型有真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備、磁控濺射鍍膜設(shè)備、離子鍍膜設(shè)備、化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備等。

　　各類鍍膜設(shè)備主要性能見表10-32～表10-35。