電子束熔煉有三種形式：滴熔、池溶和凝殼熔煉，如圖10-87所示。圖10-87(a)為滴熔，既可垂直送料，也可橫向送料。棒料需制成電極形式，要求嚴格，功耗也較池熔大。圖10-87(b)為池熔，不需制備棒料，但原料損耗稍大，鑄錠表面較粗糙，熔化速度低，熔池較淺。圖10-87(c)為凝殼熔煉，沒有坩堝污染，可鑄成各種異型件。適用于高純金屬和活潑金屬熔煉。
　　
　　電子束爐又稱電子轟擊爐，主要包括電子槍、爐體、托錠機構及結晶器、送料機構、真空系統、水冷系統、觀察裝置、電源等，如圖10-88所示。 　　
　　所用電子槍的種類有軸向（皮爾斯）、橫向、遠環和近環四種，多用軸向槍為主。它們的結構布局如圖10-89、圖10-90、圖10-91所示。圖10-92為三種送料方法的復式皮爾斯槍示意圖，不僅由單槍向多槍組合熔煉方式發展，而且可適應顆粒狀料的熔煉。圖10-93～圖10-95為各種不同的電子束爐結構示意圖，圖10-96為電子束與熔池的布置圖。