捷佳偉創(chuàng)團簇式鈣鈦礦疊層真空鍍膜裝備成功下線
【康沃真空網(wǎng)】近日，捷佳偉創(chuàng)五合一團簇式鈣鈦礦疊層真空鍍膜裝備成功下線，并且獲得客戶FAT驗收通過后順利出貨。五合一團簇式鈣鈦礦疊層真空鍍膜裝備將對薄膜制備領域產(chǎn)生重大影響。
這項革命性的技術整合了RPD、多源蒸鍍、RF濺射、脈沖直流濺射和直流濺射等多種技術，能夠在真空環(huán)境中連續(xù)沉積各種薄膜，包括TCO（ITO、IWO、ICO、IZO）、Cu、SnO2和NiO等，同時保持界面間的最佳特性，為材料科學、電子工程和光電子學等領域的研究提供了一個強大的裝備支撐。
五合一團簇式鈣鈦礦疊層真空鍍膜裝備具備以下特點：
多技術合一
該款設備將RPD、多源蒸鍍、RF濺射、脈沖直流濺射和直流濺射等多種技術相結合，實現(xiàn)了真空環(huán)境中的薄膜連續(xù)沉積。這項創(chuàng)新性技術可應用于多種領域，為材料科學、電子工程和光電子學等領域的研究提供了全新可能。
降低成本
該款設備可顯著減少鈣鈦礦電池設備的占地面積、降低資本支出和試驗成本，同時可在保持真空狀態(tài)完成多層膜沉積，有效提升鈣鈦礦電池效率。
低轟擊高速率特性
該款設備中的RPD設備具有離子轟擊小、表面損傷少、沉積速度快、少子壽命長等優(yōu)勢，RPD設備制備的薄膜致密性更好、導電性更高、透光性更好，對于提升太陽能電池轉(zhuǎn)換效率具有重要作用。同時，RPD還能夠?qū)崿F(xiàn)高鍍膜速率和大尺寸薄膜的生產(chǎn)。
多功能選項
該款設備提供了多種選項，包括各種冷阱、相鄰鍍膜腔工藝氣氛隔絕和加熱器等，使客戶能夠根據(jù)其具體需求進行定制配置，有利于嘗試不同的鈣鈦礦薄膜組合。
