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真空磁控濺射設備競價公告
2022-12-05  閱讀

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項目名稱真空磁控濺射設備項目編號TYLGJJCG2022-0305
項目編號TYLGJJCG2022-0305
公告發(fā)布日期2022/12/05 16:31公告截止日期2022/12/08 16:31
公告截止日期2022/12/08 16:31
采購單位太原理工大學付款條款合同簽訂后預付合同金額的80%,貨到驗收合格后一次性支付剩余款項。
付款條款合同簽訂后預付合同金額的80%,貨到驗收合格后一次性支付剩余款項。
聯(lián)系人中標后在我參與的項目中查看聯(lián)系手機中標后在我參與的項目中查看
聯(lián)系手機中標后在我參與的項目中查看
是否本地化服務是否需要踏勘
是否需要踏勘
采購預算¥198,000.00
送貨/施工/服務期限合同生效之日起90日內
送貨/施工/服務地址太原市萬柏林區(qū)迎澤西大街79號



   采購清單

1

采購內容是否進口計量單位采購數(shù)量售后服務
真空磁控濺射設備11)所有儀器到達用戶指定地點后,技術工程師在接到用戶安裝調試要求10個工作日內上門免費安裝、調試。; 2)質保期為儀器安裝驗收合格后1年,質保期內,所有服務及配件全部免費; 3)制造商應終身負責維護維修。在用戶提出維修要求5個工作日內到達現(xiàn)場,及時幫助客戶解決問題,并免費對軟件進行升級; 4)供貨商免費提供現(xiàn)場培訓,同時應提供2名(每臺套)廠家培訓中心免費培訓名額。
品牌及型號華析 (HC-300)   泰科諾(JCP350)  
技術參數(shù)要求1.真空磁控濺射設備主要由真空腔室、磁控濺射靶、電源、基片臺、真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏半自動控制系統(tǒng)等組成。 2.真空腔室: 1)結構:采用立式、圓柱體、氣缸助力上翻蓋結構; 2)材質及尺寸:采用SUS304優(yōu)質不銹鋼,Ф350×H350mm真空腔室;頂板焊水線; 3)腔室底部:2英寸圓形平面靶均勻分布;進氣電磁截止閥;充氣閥; 4)腔室頂部:旋轉基片臺;及自動翻蓋機構; 5)側部:DN150主抽氣口;前方配有一套觀察窗及擋板接口; 6)旋轉共濺射基片臺接口位于鍍膜室的頂部; 7)預留接口:裝膜厚儀以及其它用途; 8)Φ100mm觀察窗及擋板,位于前面; 9)腔室防污屏蔽板采用優(yōu)質不銹鋼材質,便于拆卸清理、更換等。 3.基片臺:抽屜式結構,基片臺尺寸Φ120mm,最大樣品尺寸小于Φ120mm:配有氣動基片臺擋板;配備通用夾具,方便用戶裝卡各種不同規(guī)格尺寸的基片;絕緣裝置:絕緣設計及絕緣件;基片臺電機驅動:旋轉轉速0~20轉/分鐘,連續(xù)可調;主軸磁流體密封;加熱:基片臺環(huán)境溫度800℃,采用鎧裝加熱器及絕緣、屏蔽等;采用固態(tài)繼電器和PID可編程智能溫度控制儀方式,實現(xiàn)加熱溫度自動控制。 4.濺射靶及電源:2只2英寸磁控濺射靶,靶角度、靶基距手動可調,永磁間接水冷方式,兼容直流、脈沖、射頻等電源;靶基距調整范圍80~110mm,方便調整最佳鍍膜距離;直流脈沖濺射電源1kW,數(shù)字化控制及顯示,1臺;射頻電源RF500W, 數(shù)字化控制及顯示,1臺;脈沖偏壓電源:-1kV,數(shù)字化控制及顯示,1臺。 5.真空系統(tǒng):復合分子:JTFB-600,抽速600L/s;直聯(lián)高速旋片式真空泵:TRP-24,抽速6L/s,合資品牌,抽速快,低噪音;前級/旁路閥:DN40,氣動擋板閥;真空測量:“兩低一高”數(shù)顯復合真空計。 6.工作氣路系統(tǒng):質量流量控制器及量程范圍:Ar,100sccm;N2,20sccm;電磁截止閥:Φ6mm;混氣管:三進一出。 7.氣路系統(tǒng):電接點壓力表,用于氣體壓力保護報警;氣排,用于各閥門之間分氣使用。 8.電氣控制系統(tǒng):1)采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng),可實現(xiàn)自動一鍵式抽真空;2)控制內容:機械泵、前級閥的開與關;分子泵顯示及開關控制;真空計參數(shù)顯示及控制;基片臺轉速控制等;3)安全保護報警系統(tǒng):在缺水、水壓過低情況下的報警系統(tǒng);完善的邏輯程序互鎖保護系統(tǒng)。 9.含低噪音Ⅰ型空壓機一臺;含冷卻循環(huán)水機一臺。 10.機架控制柜:機架和控制柜一體化設計,碳鋼制作,底下配腳輪,方便移動、定位。